投射式电容屏,投射式电容屏的结构材料,扫描方式,开发难点,应用
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投射式电容屏,投射式电容屏的结构材料,扫描方式,开发难点,应用  2011/10/3

目录

  • 投射式电容屏的结构材料
  • 投射式电容屏的扫描方式
  • 投射式电容屏的开发难点
  • 投射式电容屏的应用
投射式电容屏

投射式电容屏的结构材料

  •   (1)表层玻璃与双面 ITO 玻璃均为强化玻璃,其中表层为非导电 类的玻璃。

      (2)表层玻璃与双面 ITO 玻璃之间的光学透明胶即为我们通常所说 的 OCA 胶。

投射式电容屏的扫描方式

  •   投射式电容方案根据其扫描方式一般分为自电容和互电容两种:

      所谓的自容通常是指扫描电极与地构成的电容。在玻璃表面有用ITO(一种透明的导电材料)制成的横向与纵向的扫描电极,这些电极和地之间就构成一个电容的两极。当用手或触摸笔触摸的时候就会并联一个电容到电路中去,从而使在该条扫描线上的总体的电容量有所改变。在扫描的时候,控制IC依次扫描纵向和横向电极,并根据扫描前后的电容变化来确定触摸点的坐标位置。自容式扫描的优势是扫描速度快,扫描完一个扫描周期只需要扫描X+Y(X和Y分别是X轴和Y轴的扫描电极数量)根。其缺点是无法识别鬼点,不能做到真正的Real Touch。

投射式电容屏的开发难点

  •   1、芯片技术:目前主流的是 CYPRESS 方案单面棱形结构的 PATTERN 电极。

      2、触控面板技术:需要进行多次镀膜、光刻和蚀刻,工艺相当 复杂,且良率难以提高,还有许多工艺细节需要去攻关和优 化。

      3、开发周期:同种芯片,不同的触控电极设计都会影响到最终 的触控效果,灵敏度、准确率、抗干扰等。因此需要进行不 断的优化和选材,如 ITO 方块电阻的选择,线宽线距设计, 回路电阻的控制等,开发周期相当的长

      4、开发成本高:由于需要进行反复的调试来进行最佳参数的选 取,这个过程不仅长,而且成本会非常之高,常规的设计, 光罩就得三块,按 1.5 万每张计算,如设计上稍有更改就得 重新设计光罩。 刻胶、 影液、 洗液、 璃基材、 光 显 清 玻 SPUTTER 都非常之贵,动力成本也相当高。

      5、人才难寻:投射式电容屏涉及到芯片技术和触控面板技术, 懂芯片不懂触控面板流程,设计时不能客观地考虑到制程上 的影响,全理论的设计是行不通的。懂流程的则不懂芯片技 术,预估不到制程上的变异会给驱动带来怎样的影响,潜在 的失效会造成性能不稳,而又无法理解其发生所在。所以需 要建立一个完整的团队,芯片技术的、面板前制程技术的、 后制程贴合的各工段相关的技术团队才能加快整个开发进 度,缺一不可,除非是全才了。

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