GaN基材料,GaN基材料的发展历史,GaN及其三元化合物的基本特性,GaN基材料的生长技术,GaN基材料的应用,GaN基材料的典型应用及现状
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GaN基材料,GaN基材料的发展历史,GaN及其三元化合物的基本特性,GaN基材料的生长技术,GaN基材料的应用,GaN基材料的典型应用及现状  2011/10/3

目录

  • GaN基材料的发展历史
  • GaN及其三元化合物的基本特性
  • GaN基材料的生长技术
  • GaN基材料的应用
  • GaN基材料的典型应用及现状
GaN基材料

GaN基材料的发展历史

  •   早在 1928 年, Johnson 就用粉末法合成了 GaN。但由于 GaN 高熔点、高离解压的特性使 GaN 的体单晶生长极为困难,长期阻碍了 GaN 研究工作的发展。甚至一度 GaN 被认为是没有前途的材料。但是在20 世纪90 年代初, GaN 基材料的研究取得重大进展。1991 年日本日亚公司的Nakamura 等人首先以蓝宝石(Al2O3) 衬底研制成掺 Mg 的 GaN 同质结蓝色发光二极管。此后, 在各国掀起了研究 GaN 基材料的热潮。随着研究的不断进步,现在已经能够制造高亮度的蓝光、绿光、紫光和白光二极管。蓝色和紫色激光器也已能够制造。目前,蓝、绿光发光二极管已实现商品化,开发 GaN 器件的焦点主要集中在实现白光二极管和蓝色激光器的商品化上。世界各大公司和研究机构都投入巨资加入到 GaN 蓝色激光器和高亮度白光二极管的开发中。

GaN及其三元化合物的基本特性

  •   GaN 基材料主要包括 GaN 及其与 InN、AlN 的合金,其禁带宽度覆盖整个可见光及紫外光谱范围。 GaN 及其三元化合物通常是以六方对称性的纤锌矿结构存在,但在一定条件下也能以立方对称性的闪锌矿结构存在。2 种结构的主要差别在于原子层的堆积次序不同,因而电学性质也有显着差别。由于闪锌矿结构的 GaN 不稳定,用于器件的一般都是纤锌矿结构。表1 给出了2 种结构的 GaN 及 InN、 AlN 的带隙宽度和晶格常数。

      对于 InGaN、Al GaN 等三元化合物的各项参数可以用插值法估算:

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