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瓷介电容,瓷介电容的分类,瓷介电容的制造工序,瓷介电容的参数举例  2011/10/3

目录

  • 瓷介电容的分类
  • 瓷介电容的制造工序
  • 瓷介电容的参数举例
瓷介电容

瓷介电容的分类

  •   瓷介电容可分为低压低功率和高压高功率,在低压低功率中又可分为I型(CC型)和II型(CT型)。

      I型(CC型)特点是体积小,损耗低,电容对频率,温度稳定性都较高,常用于高频电路。

      II型(CT型)特点是体积小,损耗大,电容对温度频率,稳定性都较差,常用于低频电路。

瓷介电容的制造工序

  •   据《GJB192A瓷介电容器总规范》规定,瓷介电容技术的工序应该包括但不限于下列工序

      a 原材料的配料与混合

      b 介质片的制造

      c 叠片和印制电极

      d 层压和切块

      e 芯片烧结

      f 端电极涂镀

      g 包装

瓷介电容的参数举例

  •   CT1型圆形瓷片低频电容

      环境温度:-25—85C 相对湿度:+40C时达96%工作电压50V电容范围和允差:101—472 (+-10%)472-403(+80-- -20%)

      CC01圆形瓷片电容:

      环境温度:-25—85C 相对湿度:+40C时达96% 大气压力750+-30mmhg

      允许偏差:5p(+-0.5p) 6-10p(+-1P) 10p以上(J,K,M)

      温度系数:1—4P +120(+-60)PPM  4—56P –47(+-60)PPM

      56—180P –750(+-250)PPM

      180—390P –1300(+-250)PPM

      430—820P –3300(+-500)PPM

      CT01圆形瓷片电容:

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