主要包括四部分：

　　1、能够产生加速和聚焦一次离子束的离子源；

　　2、样品室和二次离子引出装置；

　　3、能把二次离子按质荷比分离的质量分析器；

　　4、二次离子检测和显示系统及计算机数据处理系统等。

　　离子探针大致可为以下几类：

　　1.非成像离子探针

　　2.离子显微镜

　　3.扫描离子微探针

　　4.图像解剖离子探针

　　离子探针的原理是利用能量为1～20KeV的离子束照射在固体表面上，激发出正、负离子（溅射），利用质谱仪对这些离子进行分析，测量离子的质荷比和强度，从而确定固体表面所含元素的种类和数量。

　　被加速的一次离子束照射到固体表面上，打出二次离子和中性粒子等，这个现象称作溅射。溅射过程可以看成是单个入射离子和组成固体的原子之间独立的、一连串的碰撞所产生的。 右图说明入射的一次离子与固体表面的碰撞情况。