Mentor多款工具可为65纳米通过平台提供DFM方案
Mentor Graphics宣布其Calibre设计与制造平台的多款工具已通过认证,现已能为IBM、特许半导体(Chartered Semiconductor)、三星(Samsung)的65纳米工艺通用平台,提供具可靠性的可制造设计(DFM)解决方案。
IBM、特许半导体和三星将与Mentor密切合作,针对65奈米的Common Platform技术将Calibre LFD最佳化,并提供设计人员一套LFD工具,以支持这三家半导体厂商共同的65纳米工艺。此外Common Platform亦将利用Calibre YieldAnalyzer,协助客户达成高良率设计(design-for-yield);该方案包含各种可制造设计规则,范围涵盖随机性、系统性和参数性等良率损失相关的所有重要领域。
Common Platform合作厂商已于2005年9月列出在可制造设计方面的策略和发展蓝图,其中特别强调联合开发团队所关注的多项重要领域;该合作旨在解决日益困难的设计收敛问题,包括时序、面积、耗电、讯号完整性和可制造性。
